摘要：金融界2024年3月29日消息，据国家知识产权局公告，华为技术有限公司申请一项名为“一种气相沉积设备及沉积薄膜的方法“公开号CN117795121A,申请日期为2021年11月。专利摘要显示，本申请的实施例提供一种气相沉积设备及沉积薄膜的方法，涉及半导体技术领域，可以解决利用现等会说。
...金融界2024年3月29日消息，据国家知识产权局公告，华为技术有限公司申请一项名为“一种气相沉积设备及沉积薄膜的方法“公开号CN117795121A,申请日期为2021年11月。专利摘要显示，本申请的实施例提供一种气相沉积设备及沉积薄膜的方法，涉及半导体技术领域，可以解决利用现等会说。
金融界2024年3月23日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种基座、半导体制造装置、气相生长和刻蚀方法“公开号CN117737701A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明提供了一种用于CVD反应腔室的基座、一种用于CVD的半导好了吧！
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jin rong jie 2 0 2 4 nian 3 yue 2 3 ri xiao xi ， ju guo jia zhi shi chan quan ju gong gao ， jiang su wei dao na mi ke ji gu fen you xian gong si shen qing yi xiang ming wei “ yi zhong ji zuo 、 ban dao ti zhi zao zhuang zhi 、 qi xiang sheng chang he ke shi fang fa “ gong kai hao C N 1 1 7 7 3 7 7 0 1 A , shen qing ri qi wei 2 0 2 3 nian 1 2 yue 。 zhuan li zhai yao xian shi ， ben fa ming ti gong le yi zhong yong yu C V D fan ying qiang shi de ji zuo 、 yi zhong yong yu C V D de ban dao hao le ba ！
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k表示交替堆叠的膜层数量。本发明的iCVD工艺构建的多层有机聚合物抗反射薄膜的光学效果与传统物理气相沉积薄膜基本一致，并且其弹性理想、应力小，可以承受2mm曲率半径200000次以上的弯折，能克服传统物理气相沉积无机薄膜应力、脆性大、耐弯折性能差的弊端。本文源自金后面会介绍。
金融界2024年3月14日消息，据国家知识产权局公告，中山凯旋真空科技股份有限公司取得一项名为“一种用于煤油气相干燥设备的换热系统“授权公告号CN220583169U,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于煤油气相干燥设备的换热系统，包括包括真空干燥后面会介绍。
金融界2024年3月8日消息，据国家知识产权局公告，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种气相法制备异氰酸酯的方法“公开号CN117658862A,申请日期为2022年8月。专利摘要显示，本发明涉及一种气相法制备异氰酸酯的方法，在有或无惰性介质存在的条件下，使相应的胺与微等会说。
金融界2024年3月4日消息，据国家知识产权局公告，深圳市曼恩斯特科技股份有限公司申请一项名为“风刀组件及气相沉积装置“公开号CN117626229A,申请日期为2024年1月。专利摘要显示，本发明提供了一种风刀组件及气相沉积装置，涉及玻璃制造设备的技术领域，该风刀组件包括吹是什么。
金融界2024年2月24日消息，据国家知识产权局公告，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种气相合成对羟基苯甲醚的方法“公开号CN117586105A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明提供一种气相合成对羟基苯甲醚的方法。所述方法采用石墨负载的P‑Ru‑Gd催化等我继续说。
金融界2024年2月21日消息，据国家知识产权局公告，中国石油天然气股份有限公司申请一项名为“一种脱硫溶液中哌嗪的气相色谱分析方法“公开号CN117571880A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明提供了一种脱硫溶液中哌嗪的气相色谱分析方法。所述方法包括：利用载说完了。
金融界2024年2月20日消息，据国家知识产权局公告，中控技术股份有限公司申请一项名为“一种气相色谱数据分析系统及方法“公开号CN117571902A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明提供了一种气相色谱数据分析系统及方法，涉及数据分析技术领域，应用于色谱仪，包括色好了吧！
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金融界2024年2月19日消息，据国家知识产权局公告，湖北省宏源药业科技股份有限公司申请一项名为“一种三甲基氟硅烷色谱纯度的气相测定方法“公开号CN117554520A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明涉及一种三甲基氟硅烷色谱纯度的气相测定方法，配置三甲基氟硅后面会介绍。
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