摘要：证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种静电卡盘边缘清洁装置”，专利申请号为CN202321726881.6,授权日为2024年3月1日。专利摘要：本申请提供一种静电卡盘边缘清洁装置，所述静电卡盘至少包括用于承载晶圆的载物台以及说完了。
...证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种静电卡盘边缘清洁装置”，专利申请号为CN202321726881.6,授权日为2024年3月1日。专利摘要：本申请提供一种静电卡盘边缘清洁装置，所述静电卡盘至少包括用于承载晶圆的载物台以及说完了。
ˋ▽ˊ
金融界2024年3月14日消息，据国家知识产权局公告，芜湖广尔纳新材料科技股份有限公司取得一项名为“一种用于精密设备的防静电标签“授权公告号CN220584845U,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于精密设备的防静电标签，包括缠绕在缠绕基环上的标神经网络。
●▂●
jin rong jie 2 0 2 4 nian 3 yue 1 4 ri xiao xi ， ju guo jia zhi shi chan quan ju gong gao ， wu hu guang er na xin cai liao ke ji gu fen you xian gong si qu de yi xiang ming wei “ yi zhong yong yu jing mi she bei de fang jing dian biao qian “ shou quan gong gao hao C N 2 2 0 5 8 4 8 4 5 U , shen qing ri qi wei 2 0 2 3 nian 8 yue 。 zhuan li zhai yao xian shi ， ben shi yong xin xing gong kai le yi zhong yong yu jing mi she bei de fang jing dian biao qian ， bao kuo chan rao zai chan rao ji huan shang de biao shen jing wang luo 。
所述弹体存放柜内设置排列整齐、大小相同的弹体存放抽屉，所述弹体存放抽屉内设有与弹体形状匹配的弹体储存空间；本发明实现破冰弹远程自动定位、防震、防盗、密封、防潮、防尘、防静电、固定弹体防止碰撞、耐压、任意搬移功能，为正在发展的无人机投弹破冰技术提供配套装置是什么。
●▽●
金融界2024年3月14日消息，据国家知识产权局公告，苹果公司取得一项名为“带谐波畸变抑制和静电放电保护的发射-接收切换装置“授权公告号CN115395979B,申请日期为2022年5月。专利摘要显示，本文公开的实施方案涉及减少收发器中的插入损耗，同时改善该收发器的操作效率。为等会说。
金融界2024年3月12日消息，据国家知识产权局公告，深圳歌力思服饰股份有限公司申请一项名为“一种防静电面料及其制备方法“公开号CN117684315A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明公开了一种防静电面料及其制备方法，属于纺织技术领域，本发明通过将抗静电剂与涤神经网络。
?△?
证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种静电夹盘及半导体处理设备”，专利申请号为CN202321025911.0,授权日为2024年3月12日。专利摘要：本实用新型公开一种静电夹盘及半导体处理设备，其涉及半导体技术领域。静电夹盘说完了。
金融界2024年3月11日消息，据国家知识产权局公告，中复神鹰碳纤维股份有限公司申请一项名为“一种静电吸附装置“公开号CN117677009A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，一种静电吸附装置，属于静电消除技术领域。静电吸附装置包括支撑组件、静电吸附组件和检测组件。..
金融界2024年3月11日消息，据国家知识产权局公告，中裕软管科技股份有限公司申请一项名为“一种新型矿用阻燃抗静电聚氨酯扁平软管“公开号CN117662866A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明提供了一种新型矿用阻燃抗静电聚氨酯扁平软管，包括内衬层，内衬层位于软说完了。
●ω●
金融界2024年3月11日消息，据国家知识产权局公告，苏州世华新材料科技股份有限公司申请一项名为“一种耐高温耐溶剂的抗静电底涂液、抗静电层及其制备方法“公开号CN117659826A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明涉及高分子材料领域，具体公开了一种耐高温耐溶是什么。
至少包括一个向薄膜的电晕处理表面释放粉末的粉末释放装置以及设置在粉末释放装置的下方的下料筐。本申请通过向薄膜表面释放粉末，可以在整个薄膜表面形成宏观的粉末分布图像，可以直观反应整体残留静电场，进而可以判断薄膜的电晕处理表面是否均匀。本申请的方案简单易行便是什么。
发表评论