摘要：得到表面形成有氧化锆陶瓷层的锆合金材料。本申请的处理方法，一方面，将初始氧化锆陶瓷层中产生裂纹、质量较差的部分转化成金属锆层，降低材料表面的硬度，以更容易的方式去除表面氧化锆陶瓷层，提高抛光效率；另一方面，防止裂纹向材料内部延伸，得到的锆合金材料表面具有无裂纹等我继续说。
...得到表面形成有氧化锆陶瓷层的锆合金材料。本申请的处理方法，一方面，将初始氧化锆陶瓷层中产生裂纹、质量较差的部分转化成金属锆层，降低材料表面的硬度，以更容易的方式去除表面氧化锆陶瓷层，提高抛光效率；另一方面，防止裂纹向材料内部延伸，得到的锆合金材料表面具有无裂纹等我继续说。
金融界2024年3月26日消息，据国家知识产权局公告，华为技术有限公司申请一项名为“化学机械抛光设备及其控制方法“公开号CN117769478A,申请日期为2021年9月。专利摘要显示，本公开的实施例提供了一种化学机械抛光设备及其控制方法。该化学机械抛光设备包括抛光平台，适于等会说。
jin rong jie 2 0 2 4 nian 3 yue 2 6 ri xiao xi ， ju guo jia zhi shi chan quan ju gong gao ， hua wei ji shu you xian gong si shen qing yi xiang ming wei “ hua xue ji xie pao guang she bei ji qi kong zhi fang fa “ gong kai hao C N 1 1 7 7 6 9 4 7 8 A , shen qing ri qi wei 2 0 2 1 nian 9 yue 。 zhuan li zhai yao xian shi ， ben gong kai de shi shi li ti gong le yi zhong hua xue ji xie pao guang she bei ji qi kong zhi fang fa 。 gai hua xue ji xie pao guang she bei bao kuo pao guang ping tai ， shi yu deng hui shuo 。
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金融界2024年3月25日消息，据国家知识产权局公告，东旭光电科技股份有限公司取得一项名为“曲面玻璃抛光机“授权公告号CN109571224B,申请日期为2018年12月。专利摘要显示，本发明公开了一种曲面玻璃抛光机，曲面玻璃抛光机包括治具平动装置以及抛光盘平动装置；治具平动装等会说。
金融界2024年3月25日消息，据国家知识产权局公告，宁波江丰电子材料股份有限公司取得一项名为“一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法“授权公告号CN115464543B,申请日期为2022年10月。专利摘要显示，本发明提供一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法，所述抛光方法包括对拼接型高纯是什么。
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金融界2024年3月23日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司申请一项名为“晶圆翻转装置及化学机械抛光设备“公开号CN117733730A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本申请提供了一种晶圆翻转装置及化学机械抛光设备。晶圆翻转装置包括：驱动单元，其包括伸等我继续说。
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南方财经3月21日电，在2024慕尼黑上海光博会上，朗信(苏州)精密光学有限公司首次展示了其全新研发的MRP300小口径磁流体抛光机。这台设备专为中小口径超精密光学元件的批量化生产而设计，其最大加工口径达300mm,具备自动对刀功能，而且能够加工多种材料，包括光学玻璃、微晶后面会介绍。
金融界2024年3月20日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司申请一项名为“抛光头及化学机械抛光设备“公开号CN117718878A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本申请提供一种抛光头及化学机械抛光设备。抛光头包括：抛光头主体、弹性气膜、第一夹紧装置和神经网络。
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金融界2024年3月20日消息，据国家知识产权局公告，深圳市华成工业控制股份有限公司申请一项名为“一种基于力和位混合控制的工业机器人力控打磨抛光方法“公开号CN117718805A,申请日期为2024年1月。专利摘要显示，本发明属于机器人技术领域，具体的说是一种基于力和位混合说完了。
金融界2024年3月20日消息，据国家知识产权局公告，上海海得控制系统股份有限公司申请一项名为“多面抛光机控制系统及控制方法“公开号CN117718866A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明提供一种多面抛光机控制系统及控制方法，所述系统包括：两个变频器，分别用于驱说完了。
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金融界2024年3月20日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司申请一项名为“用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备“公开号CN117718876A,申请日期为2024年2月。专利摘要显示，本申请实施例提供了一种用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备，其等我继续说。
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