摘要：获奖产品介绍及获奖理由：三星Galaxy Z Fold5作为三星年度旗舰折叠屏产品，传承三星经典折叠屏设计，同时升级的超闭合精工铰链，可以做到折叠闭合无缝隙，而在产品上秉持着优秀做工品质，呈现出精致典雅的外观，同时借助大屏折叠的优势，在掌上移动办公时带来更多便利。在核心配置方是什么。
...获奖产品介绍及获奖理由：三星Galaxy Z Fold5作为三星年度旗舰折叠屏产品，传承三星经典折叠屏设计，同时升级的超闭合精工铰链，可以做到折叠闭合无缝隙，而在产品上秉持着优秀做工品质，呈现出精致典雅的外观，同时借助大屏折叠的优势，在掌上移动办公时带来更多便利。在核心配置方是什么。
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IT之家12 月27 日消息，消息源Paras Guglani 今天发布推文，分享了三星Galaxy S24 Ultra 手机保护壳照片。根据此前曝光的渲染图，三星Galaxy S24 Ultra 手机在外观设计上，预估会沿用前代设计，不过从曝光的手机保护壳照片来看，垂直部分三个摄像头会凸起，形成相机岛。IT之家此前报道神经网络。
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I T zhi jia 1 2 yue 2 7 ri xiao xi ， xiao xi yuan P a r a s G u g l a n i jin tian fa bu tui wen ， fen xiang le san xing G a l a x y S 2 4 U l t r a shou ji bao hu ke zhao pian 。 gen ju ci qian pu guang de xuan ran tu ， san xing G a l a x y S 2 4 U l t r a shou ji zai wai guan she ji shang ， yu gu hui yan yong qian dai she ji ， bu guo cong pu guang de shou ji bao hu ke zhao pian lai kan ， chui zhi bu fen san ge she xiang tou hui tu qi ， xing cheng xiang ji dao 。 I T zhi jia ci qian bao dao shen jing wang luo 。
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新年的钟声即将敲响，2024正跨着大步向我们走来。在一元复始的岁末更替之际，想必有很多朋友都将健康与平安作为自己的新年愿望。因此能帮助保持健康生活状态的三星Galaxy Watch6系列智能手表就成了近来的热门之选。坚持锻炼强健体魄相信在每个人的新年规划表里，坚持运动锻是什么。
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IT之家12 月27 日消息，CES 2024 即将到来，三星日前发布了几款配备物联网和智能控制功能的智能家电新品，其中包括Bespoke 四门Flex 冰箱、Anyplace 感应烹饪灶和嵌入式电磁炉，均配备触摸屏，可实现高级控制功能。Bespoke 四门Flex 冰箱配备了AI Family Hub+,采用了该公司称之好了吧！
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金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“用于电信网络中的邻近服务的方法和装置“公开号CN117296350A,申请日期为2022年5月。专利摘要显示，本公开涉及用于支持更高数据传输速率的5G或6G通信系统。公开了一种操作可操作以与电等会说。
金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“半导体器件及其制造方法”，公开号CN117295328A,申请日期为2023年3月。专利摘要显示，一种半导体器件，包括：单元有源图案，包括彼此间隔开的第一部分和第二部分；在单元有源图案的第一部分和第还有呢？
金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“半导体器件以及包括该半导体器件的电子系统“公开号CN117295337A,申请日期为2023年06月。专利摘要显示，提供一种半导体器件。该半导体器件包括：衬底，包括存储单元区和连接区；存储单元区后面会介绍。
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金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“发送和接收多播会话激活通知的方法“公开号CN117296441A,申请日期为2022年5月。专利摘要显示，提供了一种由处于无线电资源控制(RRC)空闲状态或RRC非激活状态的用户设备(UE)执行的方法等会说。
金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“半导体器件“公开号CN117295329A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示，可以提供一种半导体器件，所述半导体器件包括：第一接触插塞结构，所述第一接触插塞结构位于衬底上；下间隔物结构，所述好了吧！
金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“基于深度学习的光刻模型生成方法以及掩模制造方法”，公开号CN117289543A,申请日期为2023年5月。专利摘要显示，提供了一种反映掩模偏差变化的可靠的光刻模型生成方法和包括该光刻模型生成说完了。
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