摘要：因此当需要对硅片平坦度进行检测时，控制硅片沿着直线方向移动的同时进行转动，配合传感器组件中的激光位移传感器对硅片表面的平坦度进行检测即可。本申请的上述技术方案结构紧凑，激光位移传感器可快速准确地实现硅片表面的平坦度测量，能同时满足抛光后硅片亚纳米级平坦度是什么。
...因此当需要对硅片平坦度进行检测时，控制硅片沿着直线方向移动的同时进行转动，配合传感器组件中的激光位移传感器对硅片表面的平坦度进行检测即可。本申请的上述技术方案结构紧凑，激光位移传感器可快速准确地实现硅片表面的平坦度测量，能同时满足抛光后硅片亚纳米级平坦度是什么。
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金融界2024年2月5日消息，据国家知识产权局公告，上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种化学机械抛光后清洗液的应用“授权公告号CN113789519B,申请日期为2021年8月。专利摘要显示，本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液的应用。具体公开了一种清洗液在清洗等会说。
jin rong jie 2 0 2 4 nian 2 yue 5 ri xiao xi ， ju guo jia zhi shi chan quan ju gong gao ， shang hai xin yang ban dao ti cai liao gu fen you xian gong si qu de yi xiang ming wei “ yi zhong hua xue ji xie pao guang hou qing xi ye de ying yong “ shou quan gong gao hao C N 1 1 3 7 8 9 5 1 9 B , shen qing ri qi wei 2 0 2 1 nian 8 yue 。 zhuan li zhai yao xian shi ， ben fa ming gong kai le yi zhong hua xue ji xie pao guang hou qing xi ye de ying yong 。 ju ti gong kai le yi zhong qing xi ye zai qing xi deng hui shuo 。
金融界2024年1月31日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司申请一项名为“晶圆抛光装置、晶圆抛光系统以及晶圆抛光方法“公开号CN117464552A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本申请公开了一种晶圆抛光装置、晶圆抛光系统以及晶圆抛光方法，晶圆抛光装后面会介绍。
金融界2024年1月31日消息，据国家知识产权局公告，湖南宇晶机器股份有限公司申请一项名为“一种用于四周抛光机的抛动装置“公开号CN117464531A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，一种用于四周抛光机的抛动装置，包括总机架、左侧机头总成和右侧机头总成，左侧机头总成还有呢？
金融界2024年1月31日消息，据国家知识产权局公告，湖南宇晶机器股份有限公司申请一项名为“一种自动化多工位抛光机的传动机构“公开号CN117464532A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，一种自动化多工位抛光机的传动机构，包括支架、设置在所述支架上的传动盘，设置在所还有呢？
作者：搬砖来赚钱随着人们对美肤的重视程度不断提高，护肤品市场也变得日益繁荣。其中，海蓝之谜(LA MER)调理焕肤液，作为一款具有超微抛光、细腻透亮功效的柔酸肌底液，它能够让肌肤焕发新生，拥有更加细腻均匀的肤色，减少皱纹的产生。海蓝之谜(LA MER)调理焕肤液富含神经酰胺好了吧！
公司加大了对半导体碳化硅材料的切、磨、抛专用加工设备研发力度，公司生产的8英寸碳化硅材料切割和抛光设备已达到同类进口设备水平，2023年已实现了批量销售，随着下游客户对8英寸碳化硅衬底材料需求的增加，有望获得更多的订单，为公司业务增长与利润增长提供了新的增长点。..
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金融界2024年1月29日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司取得一项名为“一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备“授权公告号CN220389073U,申请日期为2023年7月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备，所述等会说。
证券之星消息，根据企查查数据显示宇晶股份(002943)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种连续式多工位曲面抛光机”，专利申请号为CN201810193038.3,授权日为2024年1月26日。专利摘要：一种连续式多工位曲面抛光机，包括机架、上盘单元、传动主体、电控操作箱及真空吸附装好了吧！
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